[发明专利]核磁共振成像设备和核磁共振成像方法有效
申请号: | 200410039631.0 | 申请日: | 2004-03-12 |
公开(公告)号: | CN1530072A | 公开(公告)日: | 2004-09-22 |
发明(设计)人: | 池崎吉和 | 申请(专利权)人: | GE医药系统环球科技公司 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055;G01R33/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 邵亚丽;马莹 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及一种核磁共振成像设备及成像方法。为了消除卷褶伪影而不降低图像质量,提供了相位校正部件1072,用于根据多个接收线圈1013的其中一个,例如接收线圈10131在相位编码方向不应用梯度磁场Gp的情况下接收的作为校正信号的基准信号,对实际扫描中接收的信号进行相位校正处理,以及退褶部件1075,用于根据多个线圈1013在实际扫描中接收的、并由相位校正部件1072进行了相位校正处理的信号以及所述多个接收线圈1013中的不同灵敏度分布消除所述图像中的卷褶伪影,以便在保持线圈之间相对相位关系的情况下进行相位校正处理,并利用该相位校正处理的结果进行退褶处理(消除处理)。 | ||
搜索关键词: | 核磁共振成像 设备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种核磁共振成像设备,用于根据在多个线圈中的不同灵敏度分布从多个线圈接收到的信号产生的图像中消除卷褶伪影,所述设备包括:相位校正处理装置,用于根据所述多个线圈的其中一个在相位编码方向不应用梯度磁场的情况下接收的校正信号对所述多个线圈接收的信号进行相位校正处理;以及消除装置,用于根据所述多个线圈接收的、并由所述相位校正处理装置进行了相位校正处理的信号以及所述多个线圈中的不同灵敏度分布消除所述图像中的卷褶伪影。
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