[发明专利]核磁共振成像设备和核磁共振成像方法有效

专利信息
申请号: 200410039631.0 申请日: 2004-03-12
公开(公告)号: CN1530072A 公开(公告)日: 2004-09-22
发明(设计)人: 池崎吉和 申请(专利权)人: GE医药系统环球科技公司
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;G01R33/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 邵亚丽;马莹
地址: 美国威*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种核磁共振成像设备及成像方法。为了消除卷褶伪影而不降低图像质量,提供了相位校正部件1072,用于根据多个接收线圈1013的其中一个,例如接收线圈10131在相位编码方向不应用梯度磁场Gp的情况下接收的作为校正信号的基准信号,对实际扫描中接收的信号进行相位校正处理,以及退褶部件1075,用于根据多个线圈1013在实际扫描中接收的、并由相位校正部件1072进行了相位校正处理的信号以及所述多个接收线圈1013中的不同灵敏度分布消除所述图像中的卷褶伪影,以便在保持线圈之间相对相位关系的情况下进行相位校正处理,并利用该相位校正处理的结果进行退褶处理(消除处理)。
搜索关键词: 核磁共振成像 设备 方法
【主权项】:
1.一种核磁共振成像设备,用于根据在多个线圈中的不同灵敏度分布从多个线圈接收到的信号产生的图像中消除卷褶伪影,所述设备包括:相位校正处理装置,用于根据所述多个线圈的其中一个在相位编码方向不应用梯度磁场的情况下接收的校正信号对所述多个线圈接收的信号进行相位校正处理;以及消除装置,用于根据所述多个线圈接收的、并由所述相位校正处理装置进行了相位校正处理的信号以及所述多个线圈中的不同灵敏度分布消除所述图像中的卷褶伪影。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于GE医药系统环球科技公司,未经GE医药系统环球科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410039631.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top