[发明专利]光掩膜及漫反射板有效

专利信息
申请号: 200410039930.4 申请日: 2004-03-12
公开(公告)号: CN1530743A 公开(公告)日: 2004-09-22
发明(设计)人: 藤井幸男;六原行一 申请(专利权)人: 彩辉科技股份有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F7/20;G02B5/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 包于俊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 对于本发明的光掩膜,是在由中心点11-19、31、34、37、21、22、23构成的多罗耐三角形群中,配置单位区域R1内的中心点11-19,使多罗耐三角形的面积的平均值A及标准偏差B为规定的数值范围内。这样一来,得到具有即使在边界线Bd2、Bd3附近在单位区域间也没有接缝的图形配置的光掩膜,能够在不产生干涉条纹和不均匀的状态下制造反射辉度高的漫反射板。
搜索关键词: 光掩膜 漫反射
【主权项】:
1.一种光掩膜,具有将配置了经配置多个孤立图形的中心点的长方形、平行四边形、或六边形的单位区域相邻连接并重复配置而成的图形区域,其特征在于,设定由所述单位区域内的所述中心点构成的多个多罗耐三角形、与横跨所述单位区域跟相邻连接的其他单位区域的边界线而构成的多个多罗耐三角形的面积的总和与所述单位区域的面积相同的多罗耐三角形群,假设构成该三角形群的多个多罗耐三角形的面积的平均值为A、标准偏差为B时,配置所述中心点使得满足以下条件:(1)70μm2≤A≤120μm2 (2)0.05≤B/A≤0.25
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