[发明专利]具有基区局部重掺杂功率双极型晶体管无效

专利信息
申请号: 200410040217.1 申请日: 2004-07-15
公开(公告)号: CN1722460A 公开(公告)日: 2006-01-18
发明(设计)人: 张波;陈万军;易坤;陈林;李肇基 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/36 分类号: H01L29/36;H01L29/73
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610054四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供的一种具有基区局部重掺杂功率双极型晶体管,它是在现有的功率双极型晶体管的基区5局部重掺杂形成重掺杂基区9,所述的重掺杂基区9的掺杂类型与基区5的掺杂类型相同(指同为p型或同为n型),其浓度大于基区5的掺杂浓度;重掺杂基区9位于基极电极1下方的基区5里面,且所述的重掺杂基区9和基极电极1紧密接触。与常规的功率双极型晶体管相比,采用这种基区局部重掺杂结构,除了能在基极处形成欧姆接触外,在具有在相同的击穿电压VCBO情况下,还能大大提高器件的电流增益。
搜索关键词: 具有 局部 掺杂 功率 双极型 晶体管
【主权项】:
1、一种具有基区局部重掺杂功率双极型晶体管,它包括:基极电极(1)、发射极电极(2)、集电极电极(3)、发射区(4)、基区(5)、轻掺杂集电区(6)、重掺杂集电区(7),其特征是它还包括重掺杂基区(9);所述的重掺杂基区(9)的掺杂类型与基区(5)的掺杂类型相同(指同为p型或同为n型),其浓度大于基区(5)的掺杂浓度;所述的重掺杂基区(9)位于基极电极(1)下方的基区(5)里面,且所述的重掺杂基区(9)和基极电极(1)紧密接触。
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