[发明专利]石斛立体种植方法无效
| 申请号： | 200410040384.6 | 申请日： | 2004-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN1596595A | 公开（公告）日： | 2005-03-23 |
| 发明（设计）人： | 蔡仲玉;王跃峰;徐继宏 | 申请（专利权）人： | 蔡仲玉;王跃峰;徐继宏 |
| 主分类号： | A01G7/00 | 分类号： | A01G7/00;A01G25/00 |
| 代理公司： | 昆明大百科专利事务所 | 代理人： | 何健 |
| 地址： | 650022云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 石斛立体种植方法，是采用高1500～2500mm，宽140～400mm的墙体(1)的两个侧面作为种植面，在墙体上均布设有公称尺寸为30～120mm的孔洞(2)，培植土(4)放入孔洞(2)内，将石斛株苗(5)栽植在培植土(4)中，并在墙体(1)顶部设置滴灌装置(3)，以滴灌方式保持墙体湿润，并5～8天对株苗施以营养液，使整个墙体逐步生成苔藓，利于株苗生长，在墙体上方设置有遮阳网(6)用以控制光照强度。本发明使石斛能够在良好的生长环境里生长，且成活率高，具有明显的经济价值。 | ||
| 搜索关键词： | 石斛 立体 种植 方法 | ||
【主权项】：
1、石斛立体种植方法，其特征是，采用高1500～2500mm，宽140～400mm的墙体(1)的两个侧面作为种植面，在墙体上均布设有公称尺寸为30～120mm的孔洞(2)，培植土(4)放入孔洞(2)内，将石斛株苗(5)栽植在培植土(4)中，并在墙体(1)顶部设置滴灌装置(3)，以滴灌方式保持墙体湿润，并5～8天对株苗施以营养液，使整个墙体逐步生成苔藓，利于株苗生长，在墙体上方设置有遮阳网(6)用以控制光照强度。
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