[发明专利]光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法有效
| 申请号： | 200410042367.6 | 申请日： | 2004-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN1573548A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 盐原英志;早崎圭;藤泽忠仁;伊藤信一 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;H01L21/027;H01L21/47 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供高精度的光刻胶灵敏度的评价方法。包括：在检查对象光刻胶膜上借助于曝光装置用检查曝光量使曝光量监控标记曝光的步骤，根据已复制到检查对象光刻胶膜上的曝光量监控标记的检查复制像测定要变动的检查特征量的步骤，根据检查特征量用灵敏度校正数据计算检查对象光刻胶膜的检查光刻胶灵敏度的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 灵敏度 评价 方法 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶灵敏度的评价方法，其特征在于包括：在检查对象光刻胶膜上借助于曝光装置用检查曝光量使曝光量监控标记曝光的步骤，根据已复制到上述检查对象光刻胶膜上的上述曝光量监控标记的检查复制像测定由于曝光量而变动的检查特征量的步骤，根据上述检查特征量用灵敏度校正数据计算上述检查对象光刻胶膜的检查光刻胶灵敏度的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝，未经株式会社东芝许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410042367.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
