[发明专利]抛光垫及其生产方法有效
| 申请号： | 200410043041.5 | 申请日： | 2004-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN1539598A | 公开（公告）日： | 2004-10-27 |
| 发明（设计）人： | 樱井富士夫;三原严;五十岚善则;长谷川亨 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘元金;马崇德 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光垫和一种生产该抛光垫的方法，该抛光垫在抛光过程中甚至在磨光后，显示出优异的抛光稳定性和优异的浆液保持性，能够有效地防止抛光速率的减少，并且对于待抛光基质来说，也具有优异的压平性能。该方法包含将水溶性微粒如β－环糊精分散到交联剂如聚丙烯乙二醇中，以获得分散体，将分散体与多异氰酸酯如4，4‘－二苯基甲烷二异氰酸酯和或末端为异氰酸酯的尿烷预聚物混合，使混合溶液反应，以获得具有水溶性微粒分散在聚合物基质中的抛光垫。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 及其 生产 方法 | ||
【主权项】：
1、一种抛光垫的生产方法，包含以下步骤：在交联剂中分散水溶性微粒以产生分散体，将分散体与多异氰酸酯和/或末端为异氰酸酯的尿烷预聚物混合，以产生混合溶液，和使混合物溶液反应，以产生含有分散在聚合物基质中的水溶性微粒的抛光层的抛光垫。
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