[发明专利]光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件有效
| 申请号： | 200410043381.8 | 申请日： | 2004-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1550907A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | K·J·J·M·扎亚;T·A·R·范埃佩;A·L·H·J·范米尔;J·R·米德马;J·J·奥坦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底保持器，所述基底保持器配有提供夹持力的装置，用于将基底压靠在基底保持器上；用于抵抗所述夹持力以使所述基底从所述保持器上弹出的释放装置；用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统。根据本发明，光刻投影装置包括一个控制器，用于控制所述释放装置，从而利用在最后释放之前减小的释放力使所述基底从所述保持器释放。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 以及 由此 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：-用于提供辐射投影光束的辐射系统；-用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；-用于保持基底的基底保持器，所述基底保持器配有提供夹持力的装置，用于将基底压靠在所述基底保持器上；-用于施加抵抗所述夹持力的释放力以使所述基底从所述基底保持器上释放的释放装置；-用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；其特征在于-所述光刻投影装置包括用于施加释放力的控制器，所述释放力在最后释放之前被减小。
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