[发明专利]使用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微影罩幕无效
| 申请号： | 200410043514.1 | 申请日： | 2004-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN1637607A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 吴忠希;P·斯佩诺;T·A·布伦纳;S·布特 | 申请（专利权）人： | 因芬尼昂技术股份公司;国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张志醒 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微影罩幕。不一致性及影像缩短于使用一光微影罩幕而印制于一基板上的一影像中实质地被降低，其中罩幕图案系包括相邻于一干净区域的至少一线与空间数组。至少一线特征被并入该罩幕图案的该干净区域之内，并且配置于接近该线与空间数组的位置，该线特征具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度，而该影像系通过使用该光学投影系统照射该光微影罩幕并投射已传输通过该光微影罩幕的光至该基板之上而加以印制。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 光微影罩幕 降低 印制 基板上 影像 不一致性 缩短 方法 | ||
【主权项】：
1.一种使用一光微影罩幕以实质降低印制于一基板上的一影像中的不一致性及影像缩短的方法，其中该光微影罩幕具有包括相邻于至少一干净区域的至少一线与空间数组的一罩幕图案，而该影像通过使用一光学投影系统照射该光微影罩幕并投射已传输通过该光微影罩幕的光至该基板之上而加以印制，该方法包括下列步骤：将至少一线特征并入该罩幕图案的该干净区域之内，其中该线特征被配置于接近该线与空间数组的位置，并具有小于该光学投影系统的一最小分辨率的一线宽度。
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