[发明专利]发光装置及其制造方法无效
申请号: | 200410043564.X | 申请日: | 2004-05-14 |
公开(公告)号: | CN1551693A | 公开(公告)日: | 2004-12-01 |
发明(设计)人: | 内海彻哉;有马正彰;原田昌幸;舟田真理 | 申请(专利权)人: | 株式会社丰田自动织机 |
主分类号: | H05B33/12 | 分类号: | H05B33/12;H05B33/22;H05B33/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;张志醒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在底发射型发光装置中,与发光器件相对的衬底的一个面是具有多个粗糙点的非平坦表面。相邻粗糙点的平均间隔Sm或相邻粗糙点凸起的峰的平均间隔S不小于由发光层产生的光的最长波长的3倍并且不大于该最长波长的200倍。非平坦表面的算术平均斜率Δa在3°到20°之间的范围,包含3°和20°。因此,在特定方向上,该装置实质上具有更高的提取效率和更高的亮度。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种发光装置,该发光装置包括衬底和在该衬底上设置的发光器件,其中该器件包含位于一对电极之间的发光层,由该发光层产生的光穿过该衬底向该装置的外部发射,该装置的特征在于:该衬底具有其上形成该器件的第一面和与第一面相对的第二面,第二面是具有多个粗糙点的非平坦表面,相邻粗糙点的平均间隔Sm或相邻粗糙点凸起的峰的平均间隔S不小于由发光层产生的光的最长波长的3倍并且不大于该最长波长的200倍,其中至少满足以下要求(i)-(vi)之一:(i)非平坦表面的算术平均斜率Δa在3°到20°之间的范围,包含3°和20°;(ii)非平坦表面的均方根斜率Δq在4°到25°之间的范围;(iii)非平坦表面的算术平均粗糙度Ra与峰的平均间隔S的比Ra/S在0.01到0.07之间的范围,包含0.01和0.07;(iv)非平坦表面的算术平均粗糙度Ra与粗糙点的平均间隔Sm的比Ra/Sm在0.004到0.035之间的范围,包含0.004和0.035;(v)非平坦表面的不规则性的10点高度Rz与峰的平均间隔S的比Rz/S在0.05到0.30之间的范围,包含0.05和0.30;以及(vi)非平坦表面的不规则性的10点高度Rz与粗糙点的平均间隔Sm的比Rz/Sm在0.025到0.14之间的范围,包含0.025和0.14。
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