[发明专利]复合等离子体表面处理装置

摘要

复合等离子体表面处理装置。本发明涉及一种工件表面处理装置。扩散泵(2)通过管道(4)与真空室(1－2)和旋片泵(3)相连接，真空室1－2的上盖1－3与二级真空室(6－1)相连接，真空室(1－2)的侧壁上设有观察窗(1－6)，真空室(1－2)的侧壁上装有磁控溅射靶(1－4)、真空阴极弧(1－5)，真空室(1－2)内腔装有射频天线(1－7)和样品台(1－10)，样品台(1－10)与中心电极(10－1)相连接，中心电极(10－1)与真空室(1－2)的底座之间装有绝缘套(1－13)，绝缘套(1－13)与中心电极(10－1)之间装有密封件(1－14)，中心电极(10－1)上的电刷(10－2)与高压电缆(9－1)相连接。本装置通过产生多种粒子使工件表面获得较厚的膜层和膜层多样化。本装置用于工件表面复合等离子体处理上。

主权项

1、一种复合等离子体表面处理装置，它由真空装置(1)、二级真空装置(6)、扩散泵(2)、旋片泵(3)、管道(4)、第一阀门(7)、第二阀门(5)、接盘(8)、电缆(9)、动力输入装置(10)组成；其特征在于扩散泵(2)通过第一阀门(7)、管道(4)及第二阀门(5)与真空装置(1)中的真空室(1-2)和旋片泵(3)相连接，真空装置(1)中的上盖(1-3)通过接盘(8)与二级真空装置(6)中的二级真空室(6-1)相连接，所述的真空装置(1)包括真空室(1-2)、上盖(1-3)、磁控溅射靶(1-4)、真空阴极弧(1-5)、观察窗(1-6)、射频天线(1-7)、样品台(1-10)、进水口(1-11)、出水口(1-12)、绝缘套(1-13)、密封件(1-14)；真空室(1-2)的上端装有上盖(1-3)，真空室(1-2)的侧壁上设有进水口(1-11)、出水口(1-12)、观察窗(1-6)，真空室(1-2)的侧壁上装有磁控溅射靶(1-4)、真空阴极弧(1-5)，真空室(1-2)内腔装有射频天线(1-7)和样品台(1-10)，样品台(1-10)与动力输入装置(10)中的中心电极(10-1)相连接，中心电极(10-1)与真空室(1-2)的底座之间装有绝缘套(1-13)，绝缘套(1-13)与中心电极(10-1)之间装有密封件(1-14)，中心电极(10-1)上的电刷(10-2)与电缆(9)中的高压电缆(9-1)相连接。