[发明专利]一种高效诱导喜树离体叶片不定芽再生的培养基

摘要

一种高效诱导喜树离体叶片不定芽再生的培养基，由硝酸铵、硫酸钾、七水硫酸镁、磷酸二氢钾、二水氯化钙、四水硝酸钙、七水硫酸亚铁、乙二胺四乙酸二钠、硼酸、一水硫酸锰、七水硫酸锌、二水钼酸钠、五水硫酸铜、烟酸、甘氨酸、盐酸硫胺素、盐酸吡哆醇、肌醇组成WPM培养基的基础上还增加了植物激素6－BA(6－苄基氨基腺嘌呤)、IBA(吲哚丁酸)、NAA(萘乙酸)及琼脂与蔗糖。本发明中的培养基使喜树离体叶片愈伤组织诱导率高，愈伤组织不定芽发生频率高，可达70％，而且每片叶片不定芽发生数目多，平均为11个。这种培养基使喜树离体叶片不定芽发生的再生系统具有高频性和可重复性，为喜树次生代谢基因工程打下了良好的基础。

主权项

1.一种高效诱导喜树离体叶片不定芽再生的培养基，配方包括：a.愈伤组织诱导培养基：WPM+6-BA1.0mg/l+NAA0.2mg/l+蔗糖30g/l+琼脂6.0g/lb.不定芽再生和增殖培养基：WPM+6-BA0.5mg/l+蔗糖20g/l+琼脂6.0g/lc.不定芽生根培养基：WPM+IBA0.5mg/l+蔗糖20g/l+琼脂6.0g/l其中，WPM培养基配方为：硫酸钾(K2SO4)990mg/l、硝酸铵(NH4NO3)400mg/l、七水硫酸镁(MgSO4·7H2O)390mg/l、二水氯化钙(CaCl2·2H2O)96mg/l、四水硝酸钙(Ca(NO3)2·4H2O)556mg/l、磷酸二氢钾(KH2PO4)170mg/l、乙二胺四乙酸二钠(Na2EDTA)37.3mg/l、七水硫酸亚铁(FeSO4·7H2O)27.8mg/l、硼酸(H3BO3)6.2mg/l、四水硫酸锰(MnSO4·4H2O)22.3mg/l、七水硫酸锌(ZnSO4·7H2O)8.6mg/l、五水硫酸铜(CuSO4·5H2O)0.025mg/l、二水钼酸钠(Na2MoO4·2H2O)0.25mg/l、烟酸0.5mg/l、肌醇100mg/l、甘氨酸2mg/l、盐酸硫胺1mg/l、盐酸吡哆醇0.5mg/l。