[发明专利]半导体存储装置及其动作方法、半导体装置及便携电子设备有效
申请号: | 200410044576.4 | 申请日: | 2004-05-19 |
公开(公告)号: | CN1551359A | 公开(公告)日: | 2004-12-01 |
发明(设计)人: | 岩田浩;足立浩一郎;柴田晃秀 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;H01L27/115;H01L27/112;H01L29/788 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 徐谦;叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 半导体存储装置具有:半导体基片,其在表面部分形成了元件分离区及未形成该元件分离区的活化区;在活化区形成的作为源极或漏极来动作的2个源极/漏极扩散区;在这2个源极/漏极扩散区之间确定的沟道区;在第1方向延伸的多个第1位线;在第1方向延伸的多个第2位线;在第2方向延伸并排列在该第2方向的活化区的沟道区上介于绝缘体来设置,在沟道区上作为栅电极来起作用的多个字线;对该栅电极,在源极/漏极扩散区的一方侧与另一方侧的侧壁形成,具有保持电荷或极化的功能的存储功能体。根据选择规定的字线及第1位线及第2位线而被特定的存储功能体中所保持的电荷或极化的多寡,流经沟道区的电荷量发生变化。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储 装置 及其 动作 方法 便携 电子设备 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储装置,其结构特征在于:在半导体基片的表面部分,形成元件分离区、未形成该元件分离区的活化区,上述活化区以由第1方向、与该第1方向交叉的第2方向定义的矩阵状来配置有多个,在上述各活化区,形成作为源极或漏极来动作的2个源极/漏极扩散区,在这2个源极/漏极扩散区之间确定沟道区,在上述半导体基片上,设置在上述第2方向延伸的多个字线,该字线在按上述第2方向排列的活化区的沟道区上,介于绝缘体来设置,在上述半导体基片上,设置在上述第1方向延伸的多个第1位线、在上述第1方向延伸的多个第2位线,上述第1位线,与按上述第1方向排列的活化区中形成的上述源极/漏极扩散区的一方连接,上述第2位线,与按上述第1方向排列的活化区中形成的上述源极/漏极扩散区的另一方连接,上述字线在上述沟道区上作为栅电极来起作用,上述绝缘体在上述沟道区上作为栅绝缘膜来起作用,对上述栅电极,在上述源极/漏极扩散区的一方侧与另一方侧的侧壁,各自形成具有保持电荷或极化的功能的存储功能体,根据选择规定的字线及第1位线及第2位线而被特定的上述存储功能体中所保持的电荷或极化的多寡,来使流经选择上述规定的字线及第1位线及第2位线而被特定的上述沟道区的电荷量变化。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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