[发明专利]半导体存储装置及其动作方法、半导体装置及便携电子设备有效

专利信息
申请号: 200410044576.4 申请日: 2004-05-19
公开(公告)号: CN1551359A 公开(公告)日: 2004-12-01
发明(设计)人: 岩田浩;足立浩一郎;柴田晃秀 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L27/115;H01L27/112;H01L29/788
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 徐谦;叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 半导体存储装置具有:半导体基片,其在表面部分形成了元件分离区及未形成该元件分离区的活化区;在活化区形成的作为源极或漏极来动作的2个源极/漏极扩散区;在这2个源极/漏极扩散区之间确定的沟道区;在第1方向延伸的多个第1位线;在第1方向延伸的多个第2位线;在第2方向延伸并排列在该第2方向的活化区的沟道区上介于绝缘体来设置,在沟道区上作为栅电极来起作用的多个字线;对该栅电极,在源极/漏极扩散区的一方侧与另一方侧的侧壁形成,具有保持电荷或极化的功能的存储功能体。根据选择规定的字线及第1位线及第2位线而被特定的存储功能体中所保持的电荷或极化的多寡,流经沟道区的电荷量发生变化。
搜索关键词: 半导体 存储 装置 及其 动作 方法 便携 电子设备
【主权项】:
1.一种半导体存储装置,其结构特征在于:在半导体基片的表面部分,形成元件分离区、未形成该元件分离区的活化区,上述活化区以由第1方向、与该第1方向交叉的第2方向定义的矩阵状来配置有多个,在上述各活化区,形成作为源极或漏极来动作的2个源极/漏极扩散区,在这2个源极/漏极扩散区之间确定沟道区,在上述半导体基片上,设置在上述第2方向延伸的多个字线,该字线在按上述第2方向排列的活化区的沟道区上,介于绝缘体来设置,在上述半导体基片上,设置在上述第1方向延伸的多个第1位线、在上述第1方向延伸的多个第2位线,上述第1位线,与按上述第1方向排列的活化区中形成的上述源极/漏极扩散区的一方连接,上述第2位线,与按上述第1方向排列的活化区中形成的上述源极/漏极扩散区的另一方连接,上述字线在上述沟道区上作为栅电极来起作用,上述绝缘体在上述沟道区上作为栅绝缘膜来起作用,对上述栅电极,在上述源极/漏极扩散区的一方侧与另一方侧的侧壁,各自形成具有保持电荷或极化的功能的存储功能体,根据选择规定的字线及第1位线及第2位线而被特定的上述存储功能体中所保持的电荷或极化的多寡,来使流经选择上述规定的字线及第1位线及第2位线而被特定的上述沟道区的电荷量变化。
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