[发明专利]控制系统、光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件无效
| 申请号： | 200410044589.1 | 申请日： | 2004-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN1550908A | 公开（公告）日： | 2004-12-01 |
| 发明（设计）人： | J·A·A·T·达姆斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 控制系统、光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件用于定位装置(10)的控制系统包括PID型控制器(4)，或者连接在反馈回路中的其他元件。控制器根据电流所需值Is和电流测得值Im之间的误差来计算供给定位装置(10)的电流。该电流通过放大器(6)转变为电压，并进一步通过利用定位装置的机械和电特性以及所需位置和/或位置的所需导数计算得到的前馈电压Uff来改变。 | ||
| 搜索关键词： | 控制系统 光刻 装置 器件 制造 方法 以及 由此 | ||
【主权项】：
1.一种用于定位装置的控制系统，包括：-设定值发生器，用于根据所述定位装置的所需位置和/或其导数来计算供给所述定位装置的所需电流或电压；-控制器，用于根据所述所需的电流或电压输出供给所述定位装置的信号；以及-用于测量电流或电压当前值的至少一个传感器；其中所述控制器连接在反馈回路中，从而使控制器具有在所述所需电流或电压与所述测得电流或电压之间的误差作为其输入。其特征在于：-加法装置，用于在将至少一个前馈值供给定位装置之前将其与所述控制器的输出相加；以及-计算装置，用于利用所述定位装置的机械和/或电特性以及定位装置的所述所需位置和/或其导数计算所述前馈值。
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