[发明专利]系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法无效
申请号: | 200410044713.4 | 申请日: | 2004-05-17 |
公开(公告)号: | CN1573544A | 公开(公告)日: | 2005-02-02 |
发明(设计)人: | 土井宏介;新仓聪;大内康秀 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/022 | 分类号: | G03F7/022;G03F7/20;H01L21/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种正型光致抗蚀剂组合物,是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其中含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二叠氮基酯化物、(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂,(B)成分中含有上述通式(I)所表示的化合物和1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰化合物的酯化反应生成物。根据本发明可以提供适用于系统LCD制造的、可同时满足高感度和高分辨型的正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法。 | ||
搜索关键词: | 系统 lcd 制造 用正型光致抗蚀剂 组合 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种正型光致抗蚀剂组合物,是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其特征是:含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二叠氮酯化物、(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂,所述(B)成分中含有下述通式(I)所表示的化合物和1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰化合物的酯化反应生成物,[式中,R1~R8各自独立地代表氢原子、卤素原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、或碳原子数3~6的环烷基;R10、R11各自独立地代表氢原子或碳原子数1~6的烷基;R9可以是氢原子或碳原子数1~6的烷基,这时,Q1为氢原子、碳原子数1~6的烷基、或下述化学式(II)表示的残基,(式中,R12及R13各自独立地代表氢原子、卤素原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、或碳原子数3~6的环烷基;c表示1~3的整数),Q1还可以和R9的末端结合,这时,Q1和R9以及Q1和R9之间的碳原子一起表示碳链3~6的环烷基;a、b代表1~3的整数;d代表0~3的整数;a、b或d为3时,R3、R5或R8分别不存在;n表示0~3的整数]。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社,未经东京应化工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410044713.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:有机场致发光器件
- 下一篇:制备氟苯基亚烷基酸衍生物的方法