[发明专利]系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法无效

专利信息
申请号: 200410044713.4 申请日: 2004-05-17
公开(公告)号: CN1573544A 公开(公告)日: 2005-02-02
发明(设计)人: 土井宏介;新仓聪;大内康秀 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/022 分类号: G03F7/022;G03F7/20;H01L21/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种正型光致抗蚀剂组合物,是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其中含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二叠氮基酯化物、(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂,(B)成分中含有上述通式(I)所表示的化合物和1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰化合物的酯化反应生成物。根据本发明可以提供适用于系统LCD制造的、可同时满足高感度和高分辨型的正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法。
搜索关键词: 系统 lcd 制造 用正型光致抗蚀剂 组合 以及 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种正型光致抗蚀剂组合物,是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其特征是:含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二叠氮酯化物、(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂,所述(B)成分中含有下述通式(I)所表示的化合物和1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰化合物的酯化反应生成物,[式中,R1~R8各自独立地代表氢原子、卤素原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、或碳原子数3~6的环烷基;R10、R11各自独立地代表氢原子或碳原子数1~6的烷基;R9可以是氢原子或碳原子数1~6的烷基,这时,Q1为氢原子、碳原子数1~6的烷基、或下述化学式(II)表示的残基,(式中,R12及R13各自独立地代表氢原子、卤素原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、或碳原子数3~6的环烷基;c表示1~3的整数),Q1还可以和R9的末端结合,这时,Q1和R9以及Q1和R9之间的碳原子一起表示碳链3~6的环烷基;a、b代表1~3的整数;d代表0~3的整数;a、b或d为3时,R3、R5或R8分别不存在;n表示0~3的整数]。
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