[发明专利]装置制造方法无效
| 申请号： | 200410045150.0 | 申请日： | 2004-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN1570770A | 公开（公告）日： | 2005-01-26 |
| 发明（设计）人： | S·G·汉森;D·G·弗拉格洛;M·F·H·克拉亚斯森;L·C·德温特;E·W·M·克诺斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和一种装置制造方法。与具有等效的σ的圆形单极相比，带有平行于条形长度偏振的辐射的矩形或条形，轴上照明掩模提供了改进的焦深(DOF)和曝光宽容度，并具有较少的透镜发热。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：-用于提供辐射投射光束的照明系统；-用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于赋予投射光束的横截面一个图案；-用于保持基底的基底台；以及-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投影系统；其特征在于：-所述装置用于限定赋予投射光束的强度分布，该强度分布为一个轴上的，基本上为直线的强度分布；并且通过-偏振装置，用于赋予投射光束线偏振。
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