[发明专利]基底载体及其制造基底载体的方法有效
| 申请号： | 200410045195.8 | 申请日： | 2004-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1540446A | 公开（公告）日： | 2004-10-27 |
| 发明（设计）人： | N·J·吉里森;J·J·奥特坦斯;H·K·范德肖特;P·M·H·沃斯特斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种构造成分别支撑光刻基底(W)和光刻构图装置的载体，它包括：具有敞开的中空结构的第一部件(11，15)，该敞开的中空结构向该部件(10)的至少一侧敞开，其中，载体(10)还包括与第一部件连接的第二部件(12，17)，这样，该部件(11，15；12，17)之间形成封闭中空内部结构。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 载体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种构造成分别支撑光刻基底(W)和光刻构图装置(MA)的载体(10)，它包括：设有敞开的中空结构的第一部件(11，15)，所述敞开的中空结构向所述部件(10)的至少一侧敞开，其中，所述载体(10)还包括与第一部件连接的第二部件(12，17)，这样，在所述部件(11，15；12，17)之间形成封闭的中空内部结构。
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