[发明专利]保持框架、光学装置和投影机无效
申请号: | 200410045509.4 | 申请日: | 2004-05-28 |
公开(公告)号: | CN1573509A | 公开(公告)日: | 2005-02-02 |
发明(设计)人: | 藤森基行;柳泽佳幸 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/00 | 分类号: | G03B21/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 李峥;于静 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供可以防止基板的位置偏移,并且可以防止基板外周的勒紧从而防止色斑的产生的保持框架、光学装置和投影机。在保持框架(8)的光束入射侧的面的四边上,形成从开口部分(81)附近向光束入射侧的面的外周缘延伸、与各边的长度方向大致垂直的多条欠缺部分(87A~87L)。此外,在保持框架(8)的收容面的四边上也形成从开口部分(81)附近向收容面的外周缘延伸、与各边的长度方向大致垂直的多条欠缺部分(88A~88H)。保持框架(8)的收容面的各边的欠缺部分,从光束入射侧看在形成在保持框架(8)的光束入射侧的面的各边上的欠缺部分之间的位置上形成。 | ||
搜索关键词: | 保持 框架 光学 装置 投影机 | ||
【主权项】:
1.一种保持框架,收容并保持具备对透过的光束进行调制的光调制元件主体和封入了该光调制元件主体的一对基板的光调制元件,并且形成有用于透过光束的开口部分,其特征在于:在收容上述光调制元件的收容面和位于该收容面的背面侧的光束入射侧的面上,形成有从上述开口部分附近向外周缘延伸的欠缺部分。
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