[发明专利]投影光学系统

摘要

一种投影曝光装置的投影光学系统，用于在印刷电路板及LCD基板等的工件上进行规定图案的曝光。投影光学系统(1)包括：反射体(4)，设有改变投影光的行进方向的第一反射面(4a)及第二反射面(4b)；入射侧凸透镜(2)，使所述投影光折射通过，并将其引导向所述反射体的第一反射面；出射侧凸透镜(3)，使从所述反射体的第二反射面反射的所述投影光射出；以及支撑移动机构(8)，将所述两凸透镜支撑为相距规定的距离的同轴状态，并使其能够相对光轴方向进行平行移动；反射修正光学系(7)，将第一反射面所反射的投影光反射到第二反射面，，所述反射修正光学系具有凹面反射镜(6)以及修正光学系(5)。以此，当进行倍率调整时，减小图案的变形，保证成像的质量。

主权项

1.一种投影光学系统，用于将通过使从光源照射来的照明光通过掩模而得到的投影光投影到工件的曝光区域上，其特征在于，包括：反射体，以规定的角度设置反射所述投影光并改变所述投影光的行进方向的第一反射面及第二反射面；入射侧凸透镜，使投影光通过并将所述投影光引导向所述第一反射面；反射修正光学系，反射所述第一反射面所反射的所述投影光，并将其引导至所述第二反射面；出射侧凸透镜，使所述第二反射面所反射的所述投影光通过，并将所述投影光引导至所述工件上；以及支撑移动机构，将所述入射侧凸透镜与所述出射侧凸透镜支撑为同轴状，并使其保持规定的距离，以使所述反射体位于所述入射侧凸透镜与所述出射侧凸透镜之间，并且使所述入射侧凸透镜与所述出射侧凸透镜能够相对所述入射侧凸透镜与所述出射侧凸透镜的光轴方向进行平行移动；所述反射修正光学系包括：凹面反射镜，反射由第一反射面所反射的投影光；以及由多个透镜构成的修正光学系；所述修正光学系位于所述凹面反射镜与所述反射体之间，在使投影光通过的同时，对所述投影光的像差进行修正。