[发明专利]用于投影曝光的装置和方法有效
| 申请号： | 200410045552.0 | 申请日： | 2004-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN1573406A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 百濑克已;山贺胜;松永真一 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G02B15/16 | 分类号： | G02B15/16;G02B13/22;G02B17/08;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种将掩模图形投影到工件上的投影曝光装置。该装置有基座、光源、光学系统、掩模支承机构、工件支承机构以及对准机构。光学系统使光线形成为载有掩模的图像信息的投影光线，并引导该投影光线通过预定光路，从而使投影光线能够投影到工件的曝光表面上。光学系统包括投影光学系统和照明光学系统。该投影光学系统垂直于基座布置。掩模和工件支承机构分别相对于基座垂直支承掩模和工件。这样，工件的曝光表面能够与在光路中的成像平面重合。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 投影 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种投影曝光装置，其将掩模图形投影到工件上，包括：基座；光源，用于产生带有预定波长的紫外光的光线；光学系统，该光学系统使光线形成为载有掩模的图像信息的投影光线，并引导该投影光线通过预定光路，从而使投影光线能够投影到工件的曝光表面上；掩模支承机构，用于相对于基座垂直支承掩模；工件支承机构，用于相对于基座垂直支承工件，这样，工件的曝光表面能够与在光路中的成像平面重合；以及对准机构，用于调节在工件的曝光表面和掩模之间的对准；其中，该光学系统包括：投影光学系统，该投影光学系统布置在掩模支承机构和工件支承机构之间，其中，该投影光学系统适于垂直于基座布置；以及照明光学系统，该照明光学系统布置在光源和掩模支承机构之间。
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