[发明专利]光学信息记录媒质,光学信息记录/再现方法和装置有效
申请号: | 200410045624.1 | 申请日: | 2001-09-28 |
公开(公告)号: | CN1540648A | 公开(公告)日: | 2004-10-27 |
发明(设计)人: | 安田昭博;林一英;绪方大輔 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 张政权 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种光学信息记录媒质,其中最新指定了在保护层被多个层替代的情况下的折射率和厚度的范围,并且在这些范围内确定该保护层的折射率和厚度,从而确保即使保护层的厚度在±3μm内变化,光学信息记录媒质内的球面象差也大致在30mλrm内。 | ||
搜索关键词: | 光学 信息 记录 媒质 再现 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光学信息记录媒质,它包括至少第一和第二记录层、以及一个包括多层的保护层,该光学信息记录媒质的特征在于当光学信息记录媒质的表面和第一记录层之间的保护层中的多层中的第一到第k层(k≥2)被指定为第一保护层、并且光学信息记录媒质的表面和第二记录层之间的保护层中的多层中的第一到第m层(m>k)被指定为第二保护层时,当i是满足1≤i≤m的整数;波长为405nm处的保护层中的第i层的折射率为ni;以及第i层的厚度为di时,当(a-1)大致等价于第一保护层并能替代第一保护层的一层的组合折射率n被指定为n=((n1d1+n2d2+...+nkdk)/(d1/n1+d2/n2+...+dk/nk))0.5;(b-1)所述这一层的组合厚度被指定为d=((n1d1+n2d2+...nkdk)×(d1/n1+d2/n2+...dk/nk))0.5;以及(c-1)表达式f(n):f(n)=-105.8n3+551.5n2-936.9n+605.2被指定为与第一保护层的厚度有关的一种设计准则时;以及当(a-2)大致等价于第二保护层并能替代第二保护层的一层的组合折射率n被指定为n=((n1d1+n2d2+...+nmdm)/(d1/n1+d2/n2+...+dm/nm))0.5;(b-2)所述这一层的组合厚度被指定为d=((n1d1+n2d2+...nmdm)×(d1/n1+d2/n2+...dm/nm))0.5;以及(c-2)表达式g(n):g(n)=-138.7n3+723.7n2-1228.7n+796.0被指定为与第二保护层的厚度有关的一种设计准则时,第i层的折射率ni以及第一和第二保护层的组合折射率n等于或大于1.45并且等于或小于1.65,第一保护层的组合厚度d和设计准则表达式f(n)之间的差异d-f(n)等于或大于-10μm,第二保护层的组合厚度d和设计准则表达式g(n)之间的差异d-g(n)等于或小于10μm。
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