[发明专利]系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法无效
| 申请号： | 200410045732.9 | 申请日： | 2004-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN1609708A | 公开（公告）日： | 2005-04-27 |
| 发明（设计）人： | 栗原政树;山口敏弘;新仓聪 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/022 | 分类号： | G03F7/022 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，含有下述物质：一个分子内至少有2个苯环、并且所述苯环中的至少1个上结合有至少2个羟基的、分子量1000以下的多酚化合物和1，2－萘醌二叠氮基磺酰化合物的酯化反应生成物。 | ||
| 搜索关键词： | 系统 lcd 制造 用正型光致抗蚀剂 组合 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，是在一个基板上形成集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于含有下述物质：一个分子内至少有2个苯环、并且所述苯环中的至少1个上结合有至少2个羟基的、分子量1000以下的多酚化合物和1，2-萘醌二叠氮基磺酰化合物的酯化反应生成物。
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