[发明专利]电子束加工装置无效
| 申请号： | 200410045865.6 | 申请日： | 2004-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN1577703A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 池田功;尾岛茂夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | H01J27/14 | 分类号： | H01J27/14;G21K5/04;H01J37/08;H05H1/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 黄永奎 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供既能防止离子束向中央偏移又能维持加速栅极的冷却效果的电子束加工装置。该装置包括：等离子生成室(1)、安装在等离子生成室的开口部前面的屏栅极(2)、在屏栅极的前面按一定间隔配置的加速栅极(3)和具有安装在加速栅极(3)前面的比加速栅极(3)的细孔(3a)设置范围更宽的开口部(5a)的冷却套(5)。以使冷却套(5)的开口部沿离子束行进方向呈逐渐扩大的形状，可使等电位线与加速栅极(3)呈大致平行，既能防止离子束向中央偏移，又能维持对加速栅极(3)的冷却效果。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 加工 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电子束加工装置，具有：生成惰性气体正离子的等离子生成室，和安装在等离子生成室的开口部的前面并具有多个细孔的屏栅极，和在屏栅极前面按一定间隔配置并具有与屏栅极的细孔形状一致的多个细孔的加速栅极，和具有比设置加速栅极的细孔范围宽的开口部的冷却套；其特征在于：所述冷却套的开口部，向正离子行进方向呈逐渐扩大的形状。
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