[发明专利]光罩定位装置有效
申请号: | 200410046209.8 | 申请日: | 2004-05-31 |
公开(公告)号: | CN1704844A | 公开(公告)日: | 2005-12-07 |
发明(设计)人: | 邱铭乾 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08;G03F7/20;H01L21/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明有关一种光罩定位装置,尤指使用于光罩盒内的光罩定位装置,该光罩盒设置有座体,并于座体表面二侧设置有固定装置,而各固定装置凸设有可供光罩置放的抵持件,且抵持件的一侧设置有复数限位片,而座体上方覆盖有盖体,且盖体内具有可容置光罩的容置空间,而容置空间的底面二侧分别设置有定位装置,且容置空间的一侧设置有抵持装置,而使光罩可依定位装置及抵持装置而定位于容置空间内,以利当打开盖体后该光罩的位置可让机械手臂顺利取出,而不会与座体二侧所设置的固定装置产生摩擦,而导致光罩受损或是因摩擦而从机械手臂掉落损坏。 | ||
搜索关键词: | 定位 装置 | ||
【主权项】:
1、一种光罩定位装置,尤指使用于光罩盒内的光罩定位装置,该光罩盒设置有座体,并于座体表面二侧设置有固定装置,而各固定装置凸设有可供光罩置放的抵持件,且抵持件的一侧设置有复数限位片,而座体上方覆盖有盖体,且盖体内具有可容置光罩的容置空间,其特征在于:该容置空间的底面二侧分别设置有定位装置,而定位装置设置有一基部,且基部一端弯折有与容置空间的底面相连接的固定部,并于远离固定部的另一端弯折有定位部,使光罩可定位于容置空间二侧所设置的定位部之间。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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