[发明专利]光刻设备和校准方法及器件制造方法有效
| 申请号： | 200410047658.4 | 申请日： | 2004-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN1573560A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | J·J·M·巴塞曼斯;A·J·布里克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 苏娟 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 为校准具有可编程的图形形成装置的光刻设备，使用了诸如CCD的传感器、CMOS传感器或光电二极管阵列，该传感器具有检测器元件，该各检测器元件比与该可编程的图形形成装置的单个像素对应的点的尺寸更大。有选择地单独或成组激活各个像素。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 校准 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
1、一种光刻设备，包括：* 用于提供辐照投射射束的照射系统；* 用来赋予该投射射束以图形的单个可控元件阵列；* 用于支承基片的基片台；和* 用于把该带图形的射束投射到该基片的目标部分上面的投射系统，其特征在于：* 一检测器，可被定位于该投射的带图形的射束内而不是在所述基片中，并具有多个检测器元件，每个检测器元件比与所述可编程的图形形成装置的单个像素对应的点大。
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