[发明专利]薄膜图案形成方法、器件及其制造方法、电光装置有效

专利信息
申请号: 200410047692.1 申请日: 2004-05-26
公开(公告)号: CN1575105A 公开(公告)日: 2005-02-02
发明(设计)人: 御子柴俊明 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H05K3/14 分类号: H05K3/14;H05K3/22;H05K3/24;H05K1/16;H01L27/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种在基板上形成薄膜图案的方法,具有在基板上形成堤坝的工序、和将功能液的液滴击中在基板上、在由堤坝分隔的区域内配置功能液的工序。设定液滴的击中间隔,以使在区域内,液滴之间在击中后相互连接,区域端部的液滴的击中位置处于从区域端部离开液滴的击中间隔的1/2以下的位置。
搜索关键词: 薄膜 图案 形成 方法 器件 及其 制造 电光 装置
【主权项】:
1.一种薄膜图案形成方法,是在基板上形成薄膜图案的方法,其特征在于,具有在所述基板上形成堤坝的工序,和将功能液的液滴击中在所述基板上,在由所述堤坝分隔的区域内配置所述功能液的工序;设定所述液滴的击中间隔,以使在所述区域内,所述液滴之间在击中后相互连接;所述区域端部的所述液滴的击中位置,处于从所述区域端部离开所述液滴的击中间隔的1/2以下的距离的位置。
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