[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410047827.4 | 申请日： | 2004-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1573567A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | B·斯特雷克;M·M·T·M·蒂里奇斯;W·F·J·格霍－范安塞姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供一种光刻装置，其中曝光通过穿过具有pH小于7的水溶液投影进行，溶液与待曝光的基底接触，水溶液有利的是一种抗反射外涂层溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.光刻投影装置，包括：-用于提供辐射的投影光束的辐射系统；-用于支承图案形成装置的支承结构，图案形成装置用来按照所希望的图案使投影光束形成图案；-用于夹持基底的基底台；-用于将形成图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；及-用于以一种液体充填上述投影系统的终端元件和上述基底之间的空间的液体供应系统，其特征在于：液体是一种具有小于7的pH的水溶液。
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