[发明专利]正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法有效
| 申请号： | 200410049012.X | 申请日： | 2004-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN1573552A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 萩原三雄;中绪卓;新田和行 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用而碱溶性增大的树脂(A)、通过曝光可产生酸的酸发生剂(B)和聚丙二醇(C)，该树脂(A)中含有包含衍生自羟基苯乙烯的第1结构单元(a1)、以及衍生自具有醇性羟基的(甲基)丙烯酸酯的第2结构单元(a2)且重均分子量在2000以上、8500以下而且所述结构单元(a1)的羟基和所述结构单元(a2)的醇性羟基的总计量的10摩尔％以上、25摩尔％以下被酸离解性溶解抑制基所保护的共聚物。 | ||
| 搜索关键词： | 正型抗蚀剂 组合 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用而碱溶性增大的树脂(A)、通过曝光可产生酸的酸发生剂(B)和聚丙二醇(C)，该树脂(A)中含有包含衍生自羟基苯乙烯的第1结构单元(a1)、以及衍生自具有醇性羟基的(甲基)丙烯酸酯的第2结构单元(a2)且重均分子量在2000以上、8500以下而且所述结构单元(a1)的羟基和所述结构单元(a2)的醇性羟基的总计量的10摩尔％以上、25摩尔％以下被酸离解性溶解抑制基所保护的共聚物。
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