[发明专利]场发射显示器的电极结构制作方法无效

专利信息
申请号: 200410049858.3 申请日: 2004-06-25
公开(公告)号: CN1713325A 公开(公告)日: 2005-12-28
发明(设计)人: 方金寿;许瑞庭 申请(专利权)人: 东元奈米应材股份有限公司
主分类号: H01J9/02 分类号: H01J9/02
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 余朦;方挺
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种场发射显示器的电极结构的制作方法,将网印型或厚膜微影型的低成本银质油墨成形于基板上形成电极层,其中该油墨含粉体粒径为0.1μm至10μm,然后利用烧结技术进行油墨的烧结,在烧结后这些粉体结晶的晶粒大小为1μm至10μm,再利用表面研磨处理技术将这类低成本银质油墨制作的电极层表面研磨。本发明的方法可提高电极层表面平坦度,将厚度误差控制在0.1μm以下。
搜索关键词: 发射 显示器 电极 结构 制作方法
【主权项】:
1.一种场发射显示器的电极结构制作方法,包括:a)先取一基板;b)利用网印制造方法将油墨进行构图制作,在基板表面上形成电极;c)待上述油墨经构图为电极层后,进行烧结;d)待上述烧结后,利用一表面研磨技术,对电极层表面进行研磨,即形成场发射显示器的电极结构。
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