[发明专利]用于半导体制造设备的气体喷射器

摘要

一种用于向一在其中放置有基板的反应室供给气体的气体喷射器，其包括：一主供气管，其贯穿反应室，使得该主供气管的出口端被安置在反应室的内部；从该主供气管的出口端分出的支管；以及连接到该等支管各自出口端的喷射器排气口部件。将来自于外部气体供给源的气体供给到该主供气管中。每一个喷射器排气口部件都具有多个喷注孔。因为气体首先通过该等支管得到分配，然后通过该等喷注孔在每一个喷射器排气口部件处被喷射，所以有可能实现均匀的气体喷射，因此而有可能在处理均匀性方面得以改善。

主权项

1.一种用于向一其中放置有一基板的反应室供给气体的气体喷射器，其包括：一主供气管，该主供气管贯穿该反应室，使得该主供气管的一个出口端被安置于该反应室的内部，该主供气管接收由一外部气体供给源所供给的气体；从该主该供气管的出口端分出来的多个支管；及连接至该等支管各自出口端的至少一个喷射器排气口部件，该喷射器排气口部件具有多个喷注孔。