[发明专利]聚烯烃/蒙脱土纳米非卤阻燃材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 200410050993.X 申请日: 2004-08-06
公开(公告)号: CN1587308A 公开(公告)日: 2005-03-02
发明(设计)人: 刘芳;贾德民;吴小华 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C08L23/02 分类号: C08L23/02;C08K3/34;C08K5/521
代理公司: 广州粤高专利代理有限公司 代理人: 林丽明
地址: 510640广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种聚烯烃/蒙脱土纳米非卤阻燃材料的制备方法,使用未改性的蒙脱土和含极性基团的乙烯基单体,在聚烯烃非卤阻燃材料的加工条件下发生原位反应,形成具有插层结构的聚烯烃/蒙脱土纳米非卤阻燃材料,蒙脱土插层结构的阻隔效应和纳米效应,既对现有聚烯烃非卤阻燃材料的阻燃性能有增效作用,又对现有聚烯烃非卤阻燃材料力学性能和加工性能的损失有补偿作用,而且原位反应过程还可从结构上改善非卤阻燃剂和蒙脱土与聚烯烃树脂的相容性。本发明既克服了现有聚合物/蒙脱土纳米复合材料制备时必须使用经有机插层剂改性过的有机蒙脱土的缺点,又克服了添加非卤阻燃剂制备聚烯烃非卤阻燃材料时损害聚烯烃力学性能和加工性能的缺点。
搜索关键词: 烯烃 蒙脱土 纳米 阻燃 材料 制备 方法
【主权项】:
1、一种聚烯烃/蒙脱土纳米非卤阻燃材料的制备方法,其特征在于使用蒙脱土和含极性基团的乙烯基单体,在聚烯烃非卤阻燃材料的加工条件下发生原位反应,含极性基团的乙烯基单体的双键部分与聚烯烃树脂发生接枝反应,极性基团部分插入蒙脱土的层间,得到具有插层结构的聚烯烃/蒙脱土纳米非卤阻燃材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410050993.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top