[发明专利]一种金属箔的制造方法无效
申请号: | 200410051718.X | 申请日: | 2004-10-08 |
公开(公告)号: | CN1757789A | 公开(公告)日: | 2006-04-12 |
发明(设计)人: | 刘立 | 申请(专利权)人: | 刘立 |
主分类号: | C23C16/06 | 分类号: | C23C16/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510033广东省广州市连*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种生产金属箔的工艺方法,具体为一种金属箔的制造方法。现行方法生产的金属箔缺点为:纯度不高、颜色参差不齐、金属箔容易穿孔或破损、生产过程噪声大、劳动生产率低。本方法以可溶性薄膜作基材,在基材上以气相沉积法镀上一层较薄的金属材料,然后在溶液中把基材溶解并清洗,最后获得一层较薄的金属材料就是需要制造的金属箔。本方法制造的金属箔纯度高、颜色一致、金属箔不易破损,且生产过程无噪声,劳动生产率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属箔的制造方法,其特征在于:以可溶性薄膜作基材,在基材上以气相沉积法镀上一层较薄的金属材料,然后在溶液中把基材溶解并清洗,最后获得一层较薄的金属材料就是需要制造的金属箔。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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