[发明专利]光敏季铵盐及其制备方法和用途无效
申请号: | 200410052045.X | 申请日: | 2004-11-04 |
公开(公告)号: | CN1634865A | 公开(公告)日: | 2005-07-06 |
发明(设计)人: | 杨建文;曾兆华;许文杰;陈用烈 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | C07C211/64 | 分类号: | C07C211/64;C07C209/00;C07C225/22;C07C221/00;G03F7/029;C08F2/50 |
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地址: | 510275广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一类既是光产胺剂又是自由基光引发剂的双效光敏季铵盐及其制备方法,以及它们作为光引发剂和光产碱剂的用途,特别是用作光固化涂料、光固化油墨、光固化胶粘剂及光致抗蚀剂等中的光引发剂。本发明的光敏季铵盐可通过以二烷氨基芳基酮为起始原料,在温和条件下与卤代烷、硫酸酯等烷基化试剂作用,经亲核取代反应而制得。本发明光敏季铵盐的结构如式(1)所示,它们兼有自由基光引发剂(包括水溶性光引发剂)和光产碱的双重功能。式(1)的定义如说明书所述。 | ||
搜索关键词: | 光敏 铵盐 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】:
1.一类如式(1)所示的光敏季铵盐化合物:
式(1)式(1)中:R1和R2为甲基、乙基、丙基或苄基;R1和R2相同或不同,或者R1和R2合并为-H2CH2CH2CH2CH2-;R3为羟基、二甲氨基、二乙氨基、二羟乙氨基或N-吗啉基;R4、R5和R6为C1~C12的烷基、2-羟乙基、苄基或苯甲酰甲基,R4、R5和R6相同或不同,或者R4和R5合并为-CH2CH2CH2CH2CH2-或-CH2CH2OCH2CH2-;X-为四苯基硼阴离子、三苯基正丁基硼阴离子、N,N-二甲基二硫代氨基甲酸根离子或N,N-二乙基二硫代氨基甲酸根离子。
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