[发明专利]一种发光二极管结构及其生长方法有效

专利信息
申请号: 200410052325.0 申请日: 2004-11-19
公开(公告)号: CN1779998A 公开(公告)日: 2006-05-31
发明(设计)人: 刘明德;严志军 申请(专利权)人: 方大集团股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 代理人: 郭伟刚
地址: 518055广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种外延生长的LED结构及其生长方法,在传统的LED结构:衬底层上的缓冲层、uGaN层、n型GaN∶Si层、复合量子阱层-垒层、p型GaN∶Mg层的基础上,通过生长不掺杂的uGaN隔层而使阱层与垒层被隔开,从而在界面处将复合量子阱层与垒层从物理上分隔开。结果表明,通过本发明的生长方法所产生的LED结构与现有技术的LED相比,可以显著地降低LED芯片的反向漏电电流Ir,并提高LED芯片的良品率。本发明可用于制造各种波长的GaN基LED。
搜索关键词: 一种 发光二极管 结构 及其 生长 方法
【主权项】:
1、一种发光二极管结构,包括衬底层上的缓冲层、uGaN层、n型GaN:Si层、复合量子阱层-垒层、以及p型GaN:Mg层,其特征在于,通过加入uGaN隔层而使所述阱层与垒层被隔开。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于方大集团股份有限公司,未经方大集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410052325.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top