[发明专利]高密度矩形深刻蚀石英透射光栅有效
| 申请号： | 200410052908.3 | 申请日： | 2004-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN1588134A | 公开（公告）日： | 2005-03-02 |
| 发明（设计）人： | 周常河;张妍妍 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;H01S5/00;G02F1/35 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于高衍射效率透射800纳米波段半导体激光或以800纳米为中心波长的飞秒脉冲激光的高密度矩形深刻蚀石英透射光栅，其特征在于该光栅的线密度为1220～1270线/毫米，光栅的深度为1.49～1.55微米，光栅的占空比为1/2。本发明可以同时使TE、TM偏振方向的+1级布拉格透射衍射效率实现高于90％的结果，本发明矩形刻蚀石英透射光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子光刻工艺加工而成，可以低成本、大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 高密度 矩形 深刻 石英 透射 光栅 | ||
【主权项】：
1、一种用于透射800纳米波段半导体激光或以800纳米为中心波长的飞秒脉冲激光的高密度矩形深刻蚀石英透射光栅，其特征在于该光栅的线密度为1220～1270线/毫米，光栅的深度为1.49～1.55微米，光栅的占空比为1/2。
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