[发明专利]一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法无效
| 申请号： | 200410054021.8 | 申请日： | 2004-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN1598044A | 公开（公告）日： | 2005-03-23 |
| 发明（设计）人： | 邢贵川;李笑然;黄维 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人： | 陆飞;沈云 |
| 地址： | 20043*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明为一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法。它以传统的真空热蒸镀成膜方法为基础，引入强电场，使蒸发源里的材料粒子带上电荷，再通过加热蒸发，使这些带电的分子或粒子飞出，飞出的分子或粒子在电磁场的调控下精确飞向基板，最终成膜。与传统的热蒸发相比，本发明能够对蒸发出来的粒子的飞行方向和速度进行精确控制，从而提高所得到的光电子器件的光电性能，并带来一系列其他领域的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 电场 真空 热蒸镀成膜 方法 | ||
【主权项】：
1、一种真空热蒸镀成膜方法，以传统的真空热蒸镀成膜技术为基础，其特征在于引入强电场，使蒸发源里的材料分子或粒子带上电荷，再通过加热蒸发，使这些带电分子或粒子飞出，并在电磁场控制下精确飞向基板，最终成膜。
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