[发明专利]微波探测用的毫米波段入射微波束调制方法无效
申请号: | 200410054395.X | 申请日: | 2004-09-08 |
公开(公告)号: | CN1588178A | 公开(公告)日: | 2005-03-02 |
发明(设计)人: | 祝生祥;张冶文;陈鸿;李宏强 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | G02F1/015 | 分类号: | G02F1/015;G02F1/01 |
代理公司: | 上海德昭专利事务所 | 代理人: | 陈龙梅 |
地址: | 20009*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 微波探测用的毫米波段入射微波束调制方法,涉及用光学方法实现入射微波束调制的工艺。首先,选一种微波频率为94GHz、载流子浓度为每平方厘米1012、载流子寿命为10-4秒,表面载流子复合速率102~103厘米/秒的硅;然后采用1.06微米的脉冲激光照射该硅表面,照射的激光能量达10-5焦耳/平方厘米,使硅表面形成常数为0.7~0.8厘米的光栅条纹;最后用微波频率为94~100GHz的入射微波束,并与已形成光栅的硅表面的法线为30°的入射角入射,使硅表面光栅的亮条纹与暗条纹位置随时间成30°~60°连续变化,完成入射微波束的成形和转向。本发明工艺简单、占地少、成本不到现有技术的1/10。能广泛用于恶劣天气或灵活移动的军事目标搜索及地理、地质、国土资源普查外还可用于其它如海关查毒品等。 | ||
搜索关键词: | 微波 探测 毫米 波段 入射 调制 方法 | ||
【主权项】:
1.微波探测用的毫米波段入射微波束调制方法,其特征在于:首先,选取一种硅材料,该硅材料的微波频率为94GHz、载流子浓度为每平方厘米1012、载流子寿命为10-4秒,表面载流子的复合速率达到102~103厘米/秒的范围;然后采用1.06微米的脉冲激光照射该硅材料表面,照射的激光能量达到10-5焦耳/平方厘米数量级,在硅表面形成常数为0.7~0.8厘米的亮条纹与暗条纹对比度相当明显的光栅条纹;最后,用微波发生器发出微波频率为94~100GHz的入射微波束,并与已形成光栅的硅表面的法线为30°的入射角入射,在硅表面法线的另一侧,将产生30°夹角的反射微波束,使得在硅表面的亮条纹与暗条纹的位置随时间连续变化,连续变化的范围为反射微波束与硅表面法线成30°~60°之间,从而完成了入射微波束的成形和转向。
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