[发明专利]具有箔俘获的激光产生的等离子辐射系统无效
| 申请号： | 200410055044.0 | 申请日： | 2004-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1577097A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | L·P·巴克;V·Y·巴尼内;R·库尔特;F·J·P·舒尔曼斯;Y·V·西德尔尼科夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种辐射系统，在收集器例如法线入射收集器和(等离子)光源之间设置有箔俘获，使得来自光源的辐射两次通过箔俘获。一次在照射到收集器之前，第二次在被收集器反射之后。这个结构在过去认为是不可能的。因为箔俘获包括与来自光源的辐射和被收集器反射的辐射平行的薄片，辐射不被箔俘获遮挡。这样，应用等离子产生的光源的法线入射收集器能够防止不受到来自EUV源的碎片。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 俘获 激光 产生 等离子 辐射 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于提供辐射投射光束的辐射系统(20)，包括：- 辐射源(32)；- 收集器(22)，用于收集来自所述辐射源(32)的辐射；- 污染挡板(24)，用于俘获来自所述辐射源(32)的污染粒子，所述箔俘获设置在所述辐射源(32)和所述收集器(22)之间，以使来自所述辐射源(32)的辐射(34)通过，其特征在于，设置所述收集器(22)，以致由所述收集器反射的辐射(36)将通过所述污染挡板(24)，且其中所述污染挡板包括多个薄片(44；51)，其设置在与所述反射辐射(36)的传播方向平行的各个平面上。
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