[发明专利]沉积掩模、应用它制造显示装置的方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 200410055057.8 申请日: 2004-05-12
公开(公告)号: CN1575058A 公开(公告)日: 2005-02-02
发明(设计)人: 山口优 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: H05B33/10 分类号: H05B33/10;H05B33/12;H05B33/04;H05B33/14;H05B33/26
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种能提高显示装置孔径比的沉积掩模、一种利用该沉积掩模制造显示装置的方法和显示装置。在有机发光元件的矩阵构造的两行或多行上共用地设置一红色连续有机层、一绿色连续有机层和一蓝色连续有机层。不同于传统的有机层形成为与各有机发光元件相对应的情形,在沿着红色连续有机层、绿色连续有机层和蓝色连续有机层的延长方向上的膜厚分布问题得以解决,并且孔径比也因此提高。把凹槽部分提供给红色连续有机层、绿色连续有机层和蓝色连续有机层。在这些凹槽部分处,在第二电极和辅助电极之间形成一接触部分。因此,第二电极的电压降可以有效地抑制。
搜索关键词: 沉积 应用 制造 显示装置 方法
【主权项】:
1.一种沉积掩模,用来通过沉积方法形成被具有由基板上的多个有机发光元件的多行和多列构成的矩阵结构的显示装置的所述有机发光元件所共有的连续有机层,包括:一主体部分,具有一个或多个条纹状开口以形成被所述矩阵结构的至少两行所共有的连续有机层;和设置在所述主体部分上以在所述开口的内部部分地突出的突起。
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