[发明专利]具有测量图案的半导体器件及其测量方法有效
| 申请号： | 200410055216.4 | 申请日： | 2004-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN1574341A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 朴翔煜;侑在珉;权喆纯;金镇宇;朴在铉;金龙希;李燉雨;金大根;金周灿;金国珉;柳义烈 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种具有增强测量可靠性的测量图案的半导体器件以及利用该测量图案测量半导体器件的方法。该半导体器件包括具有其中形成有集成电路的芯片区和围绕芯片区的划线区的半导体衬底。该半导体器件还包含：形成于划线区中的测量图案，其具有表面截面区以包含在其中投射测量光束的光束区；和形成于测量图案中以缩减测量图案的表面截面区的虚设图案。虚设图案的表面截面区占光束区的表面截面区的近似5％至近似15％。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 测量 图案 半导体器件 及其 测量方法 | ||
【主权项】：
1、一种半导体器件，包括：半导体衬底，包括其中形成有集成电路的芯片区和围绕所述芯片区的划线区；测量图案，形成于所述划线区中且具有包括投射测量光束于其中的光束区的表面截面区；以及虚设图案，形成于所述测量图案中，用于缩减所述测量图案的所述表面截面区。
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