[发明专利]束均化器,激光辐照设备,以及制造半导体器件的方法有效
申请号: | 200410055832.X | 申请日: | 2004-08-04 |
公开(公告)号: | CN1580865A | 公开(公告)日: | 2005-02-16 |
发明(设计)人: | 田中幸一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B6/00;H01S3/00;H01L21/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;张志醒 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 柱形透镜阵列无法被制造成各个柱形透镜具有相同的曲率半径和相同的表面精度。因此,当用柱形透镜阵列来执行激光退火时,被柱形透镜阵列分裂的各个束斑无法在相同的表面内被完全地叠加。结果,就形成了矩形束边沿部分能量被衰减了的区域,激光束的强度分布从而变得不均匀。在本发明中,柱形透镜阵列结合光波导被使用。在激光束沿预定方向被柱形透镜阵列分裂之后,各个分裂的束被组合,然后激光束被入射到沿与预定方向相同的方向作用的光波导中。这能够修正由柱形透镜阵列加工不精确所造成的激光束强度的变化。 | ||
搜索关键词: | 均化器 激光 辐照 设备 以及 制造 半导体器件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种束均化器,它包含:用来沿预定方向分裂和组合激光束的光学系统,以及用来沿该预定方向均化激光束的强度分布的光波导。
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