[发明专利]一种磷化铟基量子级联半导体激光器及制作方法无效

专利信息
申请号: 200410056982.2 申请日: 2004-08-25
公开(公告)号: CN1741329A 公开(公告)日: 2006-03-01
发明(设计)人: 郭瑜;王春华;刘俊岐;刘峰奇;王占国 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/00 分类号: H01S5/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种磷化铟基量子级联半导体激光器,包括:一N型磷化铟衬底;一N型铟镓砷下波导层,该下波导层制作在N型磷化铟衬底上;一35个周期铟镓砷/铟铝砷交替的有源区,该有源区制作在下波导层上;一N型铟镓砷上波导层,该上波导层制作在有源区上;一N型磷化铟上包层,该上包层制作在上波导层上;一N型磷化铟接触层,该接触层制作在上包层上;一N型铟镓砷欧姆接触层,该欧姆接触层制作在N型磷化铟接触层上;经刻蚀在表面形成双沟脊形台面,在该双沟脊形台面制作有绝缘层,该绝缘层之间断开形成电流注入窗口;一正面N型电极,该正面N型电极制作在绝缘层上;一背面N型电极,该背面N型电极制作在N型磷化铟衬底上。
搜索关键词: 一种 磷化 量子 级联 半导体激光器 制作方法
【主权项】:
1、一种磷化铟基量子级联半导体激光器,其特征在于,其中包括:一N型磷化铟衬底,作为下包层;一N型铟镓砷下波导层,该下波导层制作在N型磷化铟衬底上,用来提高波导芯层的折射率,增强光限制;一35个周期铟镓砷/铟铝砷交替的有源区,该有源区制作在下波导层上,作为发光区;一N型铟镓砷上波导层,该上波导层制作在有源区上,用来提高波导芯层的折射率,增强光限制;一N型磷化铟上包层,该上包层制作在上波导层上;一N型磷化铟接触层,该接触层制作在上包层上;一N型铟镓砷欧姆接触层,该欧姆接触层制作在N型磷化铟接触层上;经刻蚀在表面形成双沟脊形台面,在该双沟脊形台面制作有绝缘层,该绝缘层之间断开形成电流注入窗口;一正面N型电极,该正面N型电极制作在绝缘层上;一背面N型电极,该背面N型电极制作在N型磷化铟衬底上。
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