[发明专利]可挠式多孔通道薄膜及其制法有效

专利信息
申请号: 200410057338.7 申请日: 2004-08-27
公开(公告)号: CN1740215A 公开(公告)日: 2006-03-01
发明(设计)人: 李进昌;何文岳;许智伟;魏腾芳;陈联泰 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08L67/06;H01M2/16
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 台湾省新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种可挠式多孔通道薄膜及其制法。本发明以离子单体/(E0/P0)(Ethylene oxide,E0/propylene oxide,P0)多官能基交联剂为主要配方,辅以水/溶剂/非溶剂自组合相层调控形成孔洞信道液膜,经光聚合方式聚合成膜,制得高强度、高导电性的可挠式多孔通道薄膜,可应用作为储能组件的隔离膜。
搜索关键词: 可挠式 多孔 通道 薄膜 及其 制法
【主权项】:
1、一种可挠式多孔通道薄膜,其特征在于是由包括下列(a)、(b)、及(c)的成分经过自组合后通过交联反应所形成的薄膜:(a)100摩尔份的下列式(I)的化合物:式(I)其中,R1为相同或不同及独立为-(CH2)m-,m为1至18的整数,R2为相同或不同及独立为H或CH3,M为Li、Na、K、或NR′4,R′为H、CH3、C2H5、C3H7或C4H9及A-为-COO-或-SO3-;(b)5至100摩尔份的交联剂,该交联剂为下列式(II)的化合物、式(III)的化合物、或其组合:式(II)其中,R3为相同或不同及独立为H或CH3,及n为1至100的整数,式(III)其中,R4为相同或不同及独立为H或CwH2w+1,w为1至4的整数;各R5为相同或不同及独立为H或CH3;及x+y+z=0-100;及(c)0.1至3摩尔份的光引发剂。
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