[发明专利]抗振干涉仪设备无效
申请号: | 200410057409.3 | 申请日: | 2004-08-12 |
公开(公告)号: | CN1580689A | 公开(公告)日: | 2005-02-16 |
发明(设计)人: | 植木伸明 | 申请(专利权)人: | 富士写真光机株式会社 |
主分类号: | G01B9/02 | 分类号: | G01B9/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王萍 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种半反射镜4将从低相干性光源1发出的光束分离成两个光束,辅助基准板6与基准板16被支撑作为一个整体,辅助样本8与样本17被支撑作为一个整体。通过半反射镜4的分离获得的第一光束在反射镜5上被反射,到达辅助参考面6a,在辅助参考面6a上被反射,并沿着相同的光路返回,然后透射穿过半反射镜4。第二光束到达辅助样本表面8a,在辅助样本表面8a上被反射,并沿着相同的光路返回,并在半反射镜4上与第一光束合并。第一光束和第二光束之间的光程长度差大致等于参考面16a和样本表面17a之间的光学距离的两倍。 | ||
搜索关键词: | 干涉仪 设备 | ||
【主权项】:
1.一种为光波干涉仪设备的抗振干涉仪设备,其中,从光源发出的光束被光束分离装置分成两个光束,所述两个光束中的一个相对于另一个光束被迂回规定的光程长度,然后所述两个光束重新合并成一个光束以形成照射光束,以及获得通过光学干涉产生的干涉条纹,该光学干涉是在通过所述照射光束在参考面上被反射而获得的光束和通过所述照射光束透射穿过所述参考面然后在样本表面上被反射而获得的光束之间产生的;其中,所述光源是低相干性光源,从所述光源发出的所述光束的相干长度比所述参考面和所述样本表面之间的光学距离的两倍要短,或者所述光源是波长已调制的光源,该光源被调整为当成像元素捕获所述干涉条纹的图像时其相干长度与这样的低相干性光源拥有的相干长度相等;其中,所述照射光束是这样获得的:通过所述参考面或辅助参考面反射所述两个光束中的第一光束,其中支撑所述辅助参考面以使其与所述参考面的相对位置关系不变化,以及通过所述样本表面或辅助样本表面反射所述两个光束中的第二光束,支撑所述辅助样本表面以使其与所述样本表面的相对位置关系不变化并与所述样本表面面向相同的方向,然后将所述第一光束和所述第二光束重新合并成所述一个光束,以便所述第一光束的轴和所述第二光束的轴基本上彼此重合;以及其中,所述规定的光程长度大致等于所述参考面和所述样本表面之间的光学距离的两倍,其中,所述大致两倍在从所述光源发出的所述光束的所述相干长度的范围内。
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