[发明专利]基底制程装置及其制程方法

摘要

本发明公开了一种基底制程装置，其包括一个制程腔室，此制程腔室具有一个基底支座、一个气体配管、一个气体增能器、一个气体排出口。此装置亦具有一个制程监测器，是用来监测基底的第一区域上的图案，并产生一个第一信号，还用来监测基底的第二区域上的图案，并产生一个第二信号。此装置还包括一个腔室控制装置，是用来接收并评估该第一信号与该第二信号，并依据该第一信号和该第二信号操作腔室。例如，腔室控制装置可依据这些信号值选择一个制程处方(process recipe)。腔室控制装置亦可设定一个制程参数，其是将制程腔室的第一制程区块设定在第一水平，而将制程腔室的第二制程区块设定在第二水平。此装置可提供一个密闭控制回路以分别监测、控制基底不同区域上的图案所进行的制程。

主权项

1.一种基底制程装置，其特征在于其包括：(a)一个制程腔室，包括：(i)一个基底支座，用以承载一个基底，该基底具有一个第一区域和一个第二区域；(ii)一个气体配管，用以将一气体导入该制程腔室中；(iii)一个气体增能器，以使该气体增能，以便在该基底上形成多数个图案；(iv)一个气体排出口，用以排出该气体；(b)一个制程监测器，用以：(i)监测该基底的该第一区域上所形成的一个间隔开的图形的尺寸并监测分离开的多数个图案，并产生一个第一信号；(ii)监测该基底的该第二区域上所形成的一个间隔开的图形的尺寸并监测分离开的多数个图案，并产生一个第二信号；(c)一个腔室控制装置，用以接收该第一信号与该第二信号，并操作该基底支座、该气体配管、该气体增能器或该气体排出口，以设定多数个制程参数，其中该些制程参数包括一个或多个气体流率、气体压力、气体增能电源的水平以及基底温度，以对该些第一区域与第二区域的图案进行制程，补偿形成在该些第一和第二区域上的图案尺寸上的差异。