[发明专利]制造母板和形成图案的方法、母板、模板、光信息记录介质和抗蚀剂无效
| 申请号： | 200410057680.7 | 申请日： | 2004-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN1591631A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | 伊藤英一;大野锐二;川口优子 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G11B7/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王玮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造光信息记录介质的母板的方法，包括：抗蚀层形成步骤，使用抗蚀剂在衬底的上表面形成抗蚀层；曝光步骤，有选择性地曝光抗蚀层，以使抗蚀层中的状态发生变化；以及显影步骤，在执行曝光步骤之后，在抗蚀层上执行碱性显影处理。抗蚀剂主要由无机材料组成，并且至少包括锑和氧，此外还含有在碱性环境中比TeO2的溶解度更低的稳定化添加剂。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 母板 形成 图案 方法 模板 信息 记录 介质 抗蚀剂 | ||
【主权项】：
1.一种制造光信息记录介质的母板的方法，所述方法包括：抗蚀层形成步骤，使用抗蚀剂在衬底的上表面上形成抗蚀层；曝光步骤，有选择地曝光抗蚀层，以使抗蚀层中的状态发生变化；以及显影步骤，在曝光步骤之后，对抗蚀层进行碱性显影处理，其中抗蚀剂主要由无机物组成，并且至少包括碲、氧以及在碱性环境中比TeO2有更低溶解度的稳定化添加剂。
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