[发明专利]光刻装置和装置调节方法

摘要

一种光刻投影装置，包括可将衬底或掩模等固定成穿过光路的支撑台。支撑台具有支撑面和从支撑面上延伸出来的突起的阵列，以便将衬底等的背面支撑在突起上。设置了检测器来测量会影响衬底等的表面光洁度的各个突起的高度偏差。在去除装置具有足够的去除强度以从单个突起中除去部分突起材料的情况下，位置选择性的材料去除和/或增添装置设置成可在支撑台处于光刻投影装置中的可操作状态时对单个突起独立地起作用。控制单元可控制材料去除和/或增添装置，以便选择性地从各个突起材料中与各个突起的各自测得的高度偏差相对应地除去一定量的材料，和/或为各个突起材料增添一定量的材料。

主权项

1.一种光刻投影装置，包括：-光束生成系统，其可提供辐射投影光束，使所述光束形成图案，以及将所述形成了图案的光束投影到衬底的目标部分上；-支撑台，其可支撑物体以使所述物体的平坦表面处于与所述投影光束的传播方向垂直的预定平面内，所述支撑台具有支撑面和从所述支撑面上延伸出来的突起的阵列，以便将所述物体支撑在所述突起上，至少各所述突起的顶部基本上由整体的突起材料形成；以及其特征在于：-检测器，其可测量会影响所述物体的表面光洁度的各个所述突起的高度偏差；-位置选择性的高度调节装置，其设置成可在所述支撑台在所述光刻投影装置中被操作时对单个突起独立地起作用，以改变所述单个突起的突起材料的高度；-连接在所述检测器和高度调节装置之间的控制单元，其设置成可控制所述高度调节装置，以便与各个所述突起的各自测得的高度偏差相对应地来调节所述突起材料的高度。