[发明专利]液晶显示器图案形成方法及制造TFT阵列基板的方法有效
申请号: | 200410058251.1 | 申请日: | 2004-08-20 |
公开(公告)号: | CN1595241A | 公开(公告)日: | 2005-03-16 |
发明(设计)人: | 金珍郁 | 申请(专利权)人: | LG.菲利浦LCD株式会社 |
主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/136;H01L29/786;H01L21/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 液晶显示器图案形成方法及制造TFT阵列基板的方法。液晶显示器图案形成方法用于通过使用微转印形成图案来减少掩模数,并且该方法包括:提供一其上形成有待构图的层的基板;提供具有对应于希望图案的凹版部分的主基板;将有机材料填入位于所述主基板的第一侧的所述凹版部分中;使所述主基板与所述基板接触;通过从所述主基板的第二侧照射光来使所述有机材料硬化;通过将所述主基板与所述基板分开,来将硬化的有机膜图案转印到所述待构图的层的表面上;以及通过使用所述有机膜图案作为掩模,对所述待构图的层进行刻蚀。 | ||
搜索关键词: | 液晶显示器 图案 形成 方法 制造 tft 阵列 | ||
【主权项】:
1、一种用于形成液晶显示器的图案的方法,包括:提供一基板,其上形成有待构图的层;提供具有对应于希望图案的凹版部分的主基板;将有机材料填入位于所述主基板的第一侧的所述凹版部分中;使所述主基板与所述基板接触;通过从所述主基板的第二侧照射光来使所述有机材料硬化;通过将所述主基板与所述基板分开,将硬化的有机膜图案转印到所述待构图的层的表面上;以及通过使用所述有机膜图案作为掩模,对所述待构图的层进行刻蚀。
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