[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410059083.8 | 申请日： | 2004-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1577100A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | T·F·森格斯;S·N·L·当德斯;H·詹森;A·布加尔德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影装置，其中液体供给系统将液体保持在投影系统的最后元件和光刻投影装置的衬底之间的空间内。位于可夹持衬底的衬底台上的传感器可在浸入到浸渍液体中时(即在与衬底成像的相同条件下)被成像。通过保证传感器的吸收元件的主要外表面由一种或较少的几种金属类型形成，就可预期得到较长的传感器寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种设置成可将图案从图案形成装置投影到衬底上的光刻投影装置，其具有：-液体供给系统，其设置成可将浸渍液体提供到所述投影系统的最后元件和带有浸渍液体的所述衬底之间的空间内；和-安装在所述衬底台上的传感器，它可在浸入到来自所述液体供给系统的浸渍液体中时被辐射所曝光，所述传感器包括在所述传感器的被照射期间与所述浸渍液体相接触的外表面，所述外表面由一种或较少的几种金属类型形成。
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