[发明专利]光刻装置、器件制造方法和由此制造得到的器件

摘要

一种光刻投射装置包括用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统。该投射系统包括一个或多个光学致动镜和特殊定位以阻隔到达或来自该镜和/其支撑结构的热辐射。该热护罩可被有效冷却并且该多个镜和多个镜护罩分别被支撑在支撑框架上以减少由于致动冷却造成的镜组的振动。该热护罩最好包括阻隔到达或来自支撑结构热护罩和/或阻隔到达或来自该镜组的热辐射的每个镜各自的热护罩。

主权项

1.一种光刻投射装置，它包括：用于提供辐射的投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需要的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；以及用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统，该投射系统包括光学致动镜，至少支撑该镜的支撑结构和至少一个热辐射护罩，该热辐射护罩定位成以阻隔到达或来自支撑结构表面和/或该镜的热辐射；热传输线路，其与至少一个热护罩热接触，用于将热传输到或传离至少一个热护罩；其上具有相应分开的支撑元件的支撑框架，用以分别支撑该支撑结构和至少一个在该支撑框架上的热辐射护罩，一方面的镜支撑元件与另一方面的至少一个热护罩除通过支撑框架的支撑之外，彼此间机械上是自由的。