[发明专利]光致抗蚀剂组合物及其制备方法

摘要

一种制备具有提高的纯度和低多分散性的聚合物的无水、液相方法，包含聚合、纯化、酯交换、纯化、除去催化剂和溶剂交换的步骤。不需要额外的处理步骤，在溶液中合成的聚合物能直接用于制备光致抗蚀剂组合物。

主权项

1.一种制备在溶液中含有聚合物且该聚合物具有低分散性的光致抗蚀剂组合物的液相工艺，包含下列步骤：(A)在一种硫代羰基硫链转移剂的存在下使一种取代的苯乙烯单体单独或与选自由丙烯酸烷基酯、一种或多种烯键不饱和可共聚单体及它们的混合物组成的组的一种单体或多种单体组合，在存在有一种引发剂的第一溶剂中，在足够的温度和压力下聚合足够的时间，以形成聚合物和第一溶剂的混合物；(B)任选地通过分级分离纯化聚合物和第一溶剂混合物，其中将附加的第一溶剂加入到所述的混合物中，并将所述的混合物加热和/或搅拌，让该混合物静置，倾析第一溶剂，且再添加第一溶剂，和重复此分级分离至少一次以上；(C)使所述的聚合物进行酯交换，其中此聚合物在催化剂的存在下，在第一溶剂的沸点温度下回流足够的时间，且在足够的温度和压力下以形成含有带羟基的聚合物和第一溶剂的反应混合物；(D)任选地纯化来自步骤(C)的反应混合物，其中将一种第二溶剂与所述的反应混合物混合，其中第二溶剂与之不混溶，从而分层，并除去所述的第二溶剂和任何溶解的副产品，和溶解在其中的平均分子量低的聚合物；(E)将所述的聚合物通过离子交换物质以除去其中任何的催化剂从而提供了实质上无催化剂的含有羟基的聚合物溶液；(F)添加与光致抗蚀剂可混溶的第三溶剂到所述的来自步骤(E)的聚合物中，并接着至少是在所述的第一溶剂的沸点温度下蒸出该第一溶剂，经过足够的时间以充分除去所有的所述的第一溶剂，以提供在所述的第三溶剂中的实质上纯的聚合物溶液。